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武汉晶源8年专利维权终获胜
发布时间:2010-08-26 11:19:04
   面对国内外市场大量商机,自主研发人——武汉晶源却只能无奈放弃。

    8年维权诉讼锲而不舍

    在经过将近两年与侵权方交涉无果后,2001年9月,武汉晶源公司向福建省高级法院提起诉讼。

    经历了7年漫长的审理,2008年5月21日,受福建省高级法院委托,

    武汉市中级法院在汉宣判:被告日本富士化水停止侵权行为,赔偿晶源公司经济损失人民币5061.24万元,并责成华阳电业按专利实际使用年限,向晶源公司支付专利使用费,每台机组每年24万。

    而后,武汉晶源向最高人民法院提起了上诉,要求华阳共同承担包括侵权损害赔偿在内的全面民事法律责任。

    2009年12月21日,最高人民法院就此案做出终审判决,认定日本富士化水工业株式会社和美资华阳电业有限公司两家被告侵犯专利权成立,责令两被告共同赔偿原告武汉晶源公司经济损失5061.24万元人民币。

    据悉,因此案的典型意义,最高人民法院特在一号示范审理庭公开审理,除安排5位法官参加此案的审理外,还邀请近两百名人大代表、政协委员、外国政府和国际组织驻华机构代表、专家学者和社会公众旁听。

    中国企业知识产权

    维权的重大胜利

    “这是我市企业运用知识产权维权取得的重大胜利”,昨日,市知识产权局局长董宏伟激动表示。

    他介绍,中国入世以后,国外企业告中国企业侵犯知识产权的案件很多,而中国企业告国外企业的却不多。这是湖北企业的首次涉外巨额知识产权诉讼,其终审获胜,在湖北乃至全国都深具影响。

    董宏伟认为,在自主创新示范区获批的背景下,此案对政府、企业和公众都有多重启示。

    企业自主创

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作者:佚名 来源:本站原创 编辑:中国环境打印此文】【加入收藏】【字体:
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